熒光X射線膜厚計

向金屬薄膜樣品(鍍金膜)打從W目標抽出的Ｘ光的話接受的熒光Ｘ光被構成樣品的元素放出。 分離成每個能源，正做計測(探測器:比例計數管，PIN探測器)那種強度。 為在熒光Ｘ光強度和膜厚相關關係是膜厚根據能夠得到的熒光Ｘ光強度知道的結構。

能知道材料(金屬，塑料)上的金屬薄膜(單層膜，2層膜，合金膜)的膜厚。 因為對樣品照射Ｘ光所以原則上是非破壞性測量(根據樣品的大小，但是有不能用非破壞測量的情況)。 然而，能測量的元素範圍從第22個Ti(鈦)到第92個U(鈾)。

因為必須查出來自測量部的熒光Ｘ光所以在探測器和測量點之間有屏蔽物的話不能測量(比方說凹狀狀樣品的內側部份的膜厚)。

因為分離能夠得到的熒光Ｘ光的不可能所以，在包括同一金屬在內的組合(比方說鍍黃銅上的銅的膜)的情況下，不可以膜厚的測量。

型號裝置： FT9400株式會社日立高科技科學製造
導入歲月： 2014年11月

在出自厚度考試熒光X射線膜厚計的東西1樣品1測量點2,400日圆

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